2025-06-29
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2026-01-24
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2025-06-29
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2026-01-18
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中国科大“自刻蚀”技术攻克材料难题:二维半导体加工获重大突破,实现原子级“马赛克”异质结可控构筑_结构_图案化_内应力
如何在二维钙钛矿单晶中实现高质量、可控外延的横向异质结图案化,同时保持界面原子级平整与晶格连续性,长期以来仍是该领域面临的关键科学挑战。与传统强溶剂处理或紫外光图案化方法相比,该策略具有过程温和、晶格无损伤等…...




